除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN201110450103.4 （22）申请日 2011.12.29

（71）申请人 大连三达奥克化学股份有限公司

地址 116000 辽宁省大连市高新技术园区学子路99号

（10）申请公布号 CN102586790A

（43）申请公布日 2012.07.18

（72）发明人 潘德顺;张礼让;李佳琪 （74）专利代理机构 大连非凡专利事务所

代理人 闪红霞

（51）Int.CI

C23G1/19; C23G1/14;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法

（57）摘要

本发明公开一种除抛光膏粉剂型超声波清

洗剂，所用原料及质量百分比如下：氢氧化钾1~3%、碳酸钠10~40%、磷酸氢二钠10~36%、三聚磷酸钠1~10%、亚硝酸钠1~10%、QYL-252C1~8%、QYL-201~3%、NP-61~3%、渗透剂JFC0.5~5%及有机硅消泡剂1~4%。制备方法按如下步骤进行：开动粉体制作搅拌器，按照粉体制作搅拌的操作规

程，将计算称量的碳酸钠、磷酸氢二钠、三聚磷酸钠、亚硝酸钠、氢氧化钾依次徐徐加入到搅拌器中，边加入边搅拌，当固体搅拌均匀后，再将计算称量的QYL-252C、QYL-20、NP-6、渗透剂JFC、有机硅消泡剂依次徐徐加到搅拌器中，直到充分搅拌均匀为止，放料包装。

法律状态

法律状态公告日

2012-07-18 2015-08-19

法律状态信息

公开

发明专利申请公布后的视为撤回

法律状态

公开

发明专利申请公布后的视为撤回

权利要求说明书

除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看

说明书

除抛光膏粉剂型超声波清洗剂及制备方法的说明书内容是....请下载后查看