专利名称：一种工业硅湿法除杂的方法专利类型：发明专利
发明人：马文会,李绍元,魏奎先,伍继君,谢克强,杨斌,戴永年申请号：CN201410614912.8申请日：20141105公开号：CN104401999A公开日：20150311
摘要：本发明公开一种工业硅湿法除杂的方法，属于湿法提纯制备高纯硅技术领域；本发明所述方法针对湿法提纯工业硅过程中由于硅中杂质被包裹而难以实现深度除杂的实际问题；提出先通过采用金属纳米颗粒辅助刻蚀（MACE）法在硅料表面及内部“钻出”大量纳米级孔道，使包裹的夹杂充分暴露，再结合酸浸处理来达到工业硅料中夹杂深度脱除的目的。本发明所述方法具有设备要求简单、操作容易、适合规模化工业生产。
申请人：昆明理工大学
地址：650093 云南省昆明市五华区学府路253号
国籍：CN
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