专利名称：一种多用真空炉系统专利类型：实用新型专利发明人：郭杰,吴庆民,刘扬申请号：CN201921497499.6申请日：20190906公开号：CN210463973U公开日：20200505
摘要：本实用新型涉及真空炉设备技术领域，尤其是涉及一种多用真空炉系统，包括多个真空炉、搬送室和旋转盘；多个真空炉围绕旋转盘呈环形分布；搬送室位于旋转盘上，且搬送室在旋转盘的带动下旋转，使搬送室的出料口朝向不同的真空炉；旋转盘上设置有直线轨道，搬送室能够沿直线轨道做直线往复运动，使搬送室靠近或远离真空炉。本申请的多用真空炉系统的真空炉呈环形分布，通过一个搬送室能够实现对多个真空炉的供料和取料，减少了占地面积，在供料时搬送室行走距离短，对真空炉的供料和取料效率高。
申请人：爱发科真空技术(沈阳)有限公司
地址：110000 辽宁省沈阳市浑南区兰台路12号甲
国籍：CN
代理机构：北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人：毕翔宇
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