光刻机我们为什么能够设计出来,而生产不出来呢?

发布网友 发布时间：2022-04-23 23:00

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热心网友 时间：2022-05-06 05:48

其实我一直认为芯片技术是一门综合技术，光刻机技术就像一把“尖刀”，卡在我们心里，所以芯片就是生命，光刻机就是生命的保障。

但是，一方面因为国内光刻机技术的约束，对于我们来说，没有光刻机就像是一直在警惕这个芯片的危机。那么，芯片制造难吗？没有光刻机可以吗？

芯片制造的难度是通过制造步骤知道的

我们知道，如果一个芯片被成型并放入设备，需要四个步骤，即设计、制造、封装和测试。设计制造可以说是芯片设计的精髓。说到设计，高通、苹果、华为都是设计公司。

他们是用EDA软件设计的，必须提到的是，这个软件本身就是我们芯片设计领域的软肋。现在在设计上，华为已经能够满足我们的设计需求，关键在制造

先说一下芯片制造的步骤，这样你可能更容易知道芯片制造的难度。

第一步:我们需要的是把晶圆从沙子中提取出来，把提取出来的单晶硅做成硅锭，然后把硅锭逐个加工切割成晶圆，这就是所谓的晶圆。

第二步:这时我们又有一个因素制约着我们，在晶圆上涂一层光刻胶(可以用紫外线固化，但是很容易被水溶解)。这里需要提一下:光刻胶，主要来自日本和美国，特别是高端光刻胶，只有日本有涂胶显影机。

蚀刻后，不必要的涂层被溶解，留下光刻部分并形成凹槽。需要向沟槽中注入其他离子元素来改变单晶硅的电导率。

02筹码难度:一圈一圈

要知道在芯片这一步，我们缺的不仅仅是光刻机。甚至包括设计领域的EDA设计软件；制造领域:日本和美国的光刻胶钳，日本的胶显影机，荷兰的光刻机，日本的离子注入机都是关键部件。

作为一个中国人，真的不容易，所以所有的高科技都要自己开发。西方国家会*中国需要的核心部分。只有靠中国人自己，没有别的办法。虽然我现在处境很不好，但我还是很庆幸自己是中国人。我很自豪。再过几年，世界上就只剩下中国和外国了。时间不宜过长。自己加油，中国加油。

目前国内能生产光刻机的企业有五家，最先进的是上海微电子设备有限公司，光刻机量产的芯片技术是90 nm，现在正向65 nm迈进，国外最先进的是5 nm，正向3 nm迈进。中间有9步的差距。按每一步4 ~ 5年的差距来看，还需要40年才能赶上。

热心网友 时间：2022-05-06 07:06

干嘛不吹？一吹就出来了

热心网友 时间：2022-05-06 08:40

因为生产光刻机需要很高的技术，目前我们缺乏这样顶尖的制造技术，但是只要设计的出来，将来迟早可以生产出来，生产工艺是逐步提高的

热心网友 时间：2022-05-06 10:32

设计光刻机是一个复杂又严密的过程。他对芯片的要求极其精密，对技术的要求难度更高。人类目前的技术是难以将其设计出来的

热心网友 时间：2022-05-06 12:40

因为我们的制造还停留在图纸设计上，在光刻机的生产中有很多的零件是我们造不出来的，核心技术还在外国有关科研机构，所以我们生产不出来。