发布网友 发布时间:2022-04-24 11:30
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热心网友 时间:2023-10-11 06:10
首先他们不会惊讶,他们会感到害怕。他们都知道我们中国是个沉睡的狮子,现在的中国已经苏醒,做不做的出来只是个时间问题而已。其次他们会通过各种手段对我们进行打压。
在现阶段我们国产光刻机还很弱小时,即使是欧美国家也没有办法阻挠,最多也就是封锁封锁技术和人才。但一旦有一定形成一定的气候时,他们可能就会有各种各样的方法与借口进行阻挠到他们市场销售等等。
但就像以前家用电器发展一样,当我们强大到一定程度时,对他们形成反冲击又不得不接受我们,只要产品品质够好,光刻机也会是一样的。这几十年的发展道路就是这样走过来的。
不只是光刻机,在我们这几十年高速发展的历史已经证明,我们需要进口的东西别人会联合死劲抬高价格赚我们的钱并且还不会把最好的卖给我们,当我们萌芽发展起来以后又不停的阻挠压制我们,最后靠我们的坚强反过来又搞死他们。光刻机一样,当我们做不出来时价格高昂还不把好的卖给我们,当我们可以做出光刻机可以大批量生产时,估计也会遭遇这样那样的阻挠。
目前国产光刻机可以说还处于刚刚发芽的状态,别人ASML已经在7nm制程上大展身手了,我们量产的设备也就90纳米,我们才刚刚研发出22nm的光刻机,差距不是一般的大。因为我们的光刻机起步很晚,再加上以前忽略国产高端芯片的研发制造也有关系。但早在2009年国产封装光刻机就开始了生产,由上海微电子装备有限公司研发的封装光刻机应用在了江阴长电先进封装有限公司里,并且应用在8英寸及12英寸的多层光刻中。现在研发出世界第一台单次成像达到22纳米的SP光刻机,也是非常厉害的了。这种光刻机与ASML的光刻机模式是不一样的,按照ASML传统模式走可能我们要实现赶超超越还不知道是猴年马月的事情了,不过SP光刻机可能会改写这样的状况实现弯道超车。看似22纳米与目前高端的7纳米差很多,但情况并没有这么悲观。虽然SP光刻机单次成像达到22纳米,但结合多重曝光的技术,可以制造10纳米以下的信息器件。只不过要等到2022年左右才能完成验收,还要等几年才能成熟的应用。
热心网友 时间:2023-10-11 06:10
目前中国还没有能力做最高端的光刻机,离最先进的技术还是有一定的距离,虽然已经处在世界领先地位,但还不是第一名。
如果中国有了最高端就有了芯片的话语权,有了芯片就有了高科技技术的掌控和经济制裁能力。
热心网友 时间:2023-10-11 06:11
当我们强大到一定程度时,对他们形成反冲击又不得不接受我们,只要产品品质够好,光刻机也会是一样的。
热心网友 时间:2023-10-11 06:11
欧美国家们或许会开始用各种各样的方法与借口进行阻挠,抵制我们进入到他们市场销售等等
热心网友 时间:2023-10-11 06:12
应该是会感到非常的惊叹于羡慕的