中国第一台自主的光刻机
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发布时间：2024-10-23 16:38
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时间：2024-11-14 18:24
中国曾经不仅研发出国际一流水平的光刻机，而且在外界封锁禁运的情况下制造，拥有完整知识产权。这与一位贵州籍科学家徐端颐紧密相关。中国光刻机的研发历程，不仅展现了国家科技自主创新能力，也揭示了科学家个人的非凡贡献。
徐端颐在1955年考入清华大学，1961年毕业留校任教。1971年，他临危受命，负责研制国家半导体工业和国防工业急需的关键设备——“自动光刻机”和“分步重复照相机”。在极其困难的条件下，徐端颐和团队从零开始，最终于1971年成功研制出中国第一台光刻机，并投入规模生产。
在1980年，徐端颐团队完成了国内第一台“自动对准分步投影光刻机”的研制，加工最细线宽为0.8微米，填补了国内技术空白，进入批量生产。此成果于1981年荣获北京市科技成果一等奖。中国因此成为世界上少数能制造这种设备的国家之一。
在1991年，徐端颐带领团队研制的第三代“自动对准分步投影光刻机”通过国家级正式鉴定，获得“国家科技成果奖”。该机及使用镜头双双荣获“国家科技成果奖”。同时，该光刻机在北京展览馆展出，引起国际科学界的重视。外国光刻机专家对中国自主研发光刻机表示惊叹，称其为“不可思议”。国际“巴黎统筹委员会”取消对华出口投影光刻机的禁运令，美日国家宣布取消出口禁令。
但随着国外光刻机技术的不断发展，中国自主研发的新型自动光刻机市场逐渐缩小，最终停摆。徐端颐转向光盘研究领域，成为中国光盘研究的主要奠基人之一，获得多项专利和国际荣誉。
中国光刻机研发制造虽一度暂停，但国外技术持续进步，现在发达国家制造的高端光刻机已达到纳米级。国内科研工作者正努力追赶，继续推动中国科技发展。
